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碳納米膜制備設備如圖所示，由氣體質量流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng)，紅外烘干系統(tǒng)等組成。
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ZnO納米材料生長設備，由氣體流量計控制系統(tǒng)、液體注液系統(tǒng)、多段溫度可控多區(qū)生長系統(tǒng)、水冷卻系統(tǒng)、碳納米線或膜收集系統(tǒng)，紅外烘干系統(tǒng)組成。
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CVD石墨烯制備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)系統(tǒng)由預熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備
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設備描述該石墨烯制備設備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)系統(tǒng)由預熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備
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設備描述該石墨烯制備設備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)系統(tǒng)由預熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備
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該石墨烯制備設備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)系統(tǒng)由預熱爐、雙溫區(qū)滑軌爐、質子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備
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